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以下材料均可以使用等離子體進(jìn)行活化、消毒和蝕刻：PEEK、PEKK、Acetal(POM)、PE、PA、或PMMA、金屬(EM,NEM,Titan)、鋯和陶瓷。在牙科工作中使用低壓等離子體進(jìn)行表面處理的優(yōu)勢(shì)：活化和蝕刻以獲得更好的附著力?等離子體可以根據(jù)形狀將高性能塑料（例如：PEEK/PEKK）與其他材料無(wú)縫組合。?通過(guò)使用離子化的氧氣-氬氣-混合氣對(duì)表面......
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優(yōu)勢(shì)一、清洗對(duì)象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個(gè)工藝流水線的處理效率；二、等離子清洗使得用戶(hù)可以遠(yuǎn)離有害溶劑對(duì)人體的傷害，同時(shí)也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對(duì)象的問(wèn)題；三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會(huì)產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。......
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納米壓痕儀主要用于微納米尺度薄膜材料的硬度與楊氏模量測(cè)試，測(cè)試結(jié)果通過(guò)力與壓入深度的曲線計(jì)算得出，無(wú)需通過(guò)顯微鏡觀察壓痕面積.主要應(yīng)用半導(dǎo)體技術(shù)(鈍化層、鍍金屬、BondPads)；存儲(chǔ)材料(磁盤(pán)的保護(hù)層、磁盤(pán)基底上的磁性涂層、CD的保護(hù)層)；光學(xué)組件(接觸鏡頭、光纖、光學(xué)刮擦保護(hù)層)；金屬蒸鍍層；防磨損涂層(TiN,......
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等離子刻蝕機(jī)，又叫等離子蝕刻機(jī)、等離子平面刻蝕機(jī)、等離子體刻蝕機(jī)、等離子表面處理儀、等離子清洗系統(tǒng)等。等離子刻蝕，是干法刻蝕中最常見(jiàn)的一種形式，其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體，由此產(chǎn)生的電離氣體和釋放高能電子組成的氣體，從而形成了等離子或離子，電離氣體原子通過(guò)電場(chǎng)加速時(shí)，會(huì)釋放足夠的力量與表面驅(qū)逐力緊緊粘合材......
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XRD即X射線衍射,通常應(yīng)用于晶體結(jié)構(gòu)的分析。X射線是一種電磁波,入射到晶體時(shí)在晶體中產(chǎn)生周期性變化的電磁場(chǎng)。引起原子中的電子和原子核振動(dòng),因原子核的質(zhì)量很大振動(dòng)忽略不計(jì)。振動(dòng)著的電子是次生X射線的波源,其波長(zhǎng)、周相與入射光相同。基于晶體結(jié)構(gòu)的周期性,晶體中各個(gè)電子的散射波相互干涉相互疊加,稱(chēng)之為衍射。散射波周相一致相......
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